최대 500°C 다중 위치 자석 교반기 핫플레이트

다중 위치 자기 교반기 핫플레이트

특징

1. 고온 가열: 최대 500°C까지 가열 가능하여 고온이 필요한 화학 반응, 용해 및 시료 처리에 적합합니다.
2. 고효율 자기 교반: 최대 1500rpm의 교반 속도로 고점도 용액을 포함한 액체를 완벽하게 혼합합니다.
3. 4중 독립 제어: 4개의 별도 제어 시스템으로 각 시료별 온도 및 교반 속도 개별 조절 가능—실험 효율성과 유연성 향상.
4. 세라믹 플레이트 표면: 고온, 산/알칼리 내성 세라믹 코팅으로 우수한 내식성, 손쉬운 세척 및 안정적인 장기 사용을 제공합니다.
5. PID 온도 제어: 내장된 PID 조절 기능으로 정밀하고 안정적인 가열을 보장하여 온도 변동 및 실험 오류를 방지합니다.
6. 디지털 노브 제어: 다양한 실험 요구에 맞춰 온도와 교반 속도를 설정할 수 있는 정확하고 직관적인 디지털 노브.

작동 원리

1. 전기 가열 요소가 세라믹 코팅 플레이트를 통해 열을 전달하고, PID 제어 기능이 안정적이고 정확한 온도 출력을 유지합니다.
2. 회전 자기장이 자석 교반 막대를 구동하여 강한 와전류를 생성하여 균일한 혼합을 제공합니다.
3. 4개의 독립적인 제어 구역을 통해 각 시료의 온도와 속도를 별도로 설정할 수 있으며, 개별 PID 시스템이 구역 간 간섭을 방지합니다.

적용 분야

1. 화학 연구: 다중 반응을 위한 동시 가열 및 교반—촉매 작용, 용해 및 균일한 혼합에 이상적입니다.
2. 제약 산업: 약제 제조 및 혼합 과정에서의 가열/교반으로 고온에서의 품질과 일관성 보장.
3. 식품 산업: 시럽 용해, 유제품 혼합 및 엄격한 온도 제어가 필요한 원료 가공을 위한 정밀 가열/혼합.
4. 생물학/의학 실험: 배지 준비 및 세포 배양액 처리 시 안정적인 온도 및 혼합으로 일관된 배양 조건 유지.
5. 환경 보호/폐수 처리: 수처리/폐수 처리 시 효율적인 가열, 혼합 및 용해로 반응 효율과 공정 제어 향상.